Новини бізнесу - Китай створив власний "Манхеттенський проєкт" для виробництва ШІ-чипів

Китай створив власний “Манхеттенський проєкт” для виробництва ШІ-чипів

У високозахищеній лабораторії в Шеньчжені китайські науковці побудували прототип машини, здатної виготовляти новітні напівпровідникові чипи для штучного інтелекту, смартфонів і військової техніки, яку поки що контролюють країни Заходу. Про це повідомляє Reuters.

Прототип завершили на початку 2025 року, зараз він проходить тестування і займає майже всю площу фабрики. Машину створили колишні інженери голландської компанії ASML, які зуміли відтворити технологію екстремального ультрафіолетового (EUV) літографічного обладнання, що лежить в основі найсучасніших чипів.

Поки прототип працює й успішно генерує ультрафіолетове світло, він ще не виробляє готових чипів. Китай планує отримати перші робочі зразки до 2028 року, але більш реалістичною датою називають 2030 рік.

Проєкт є частиною шести років ініціативи уряду Китаю з досягнення самозабезпечення у виробництві напівпровідників – однієї з головних пріоритетів президента Сі Цзіньпіна. Huawei координує роботу численних компаній та державних дослідних інститутів, залучаючи тисячі інженерів. Проєкт секретний і порівнюють його з американським Манхеттенським проектом.

Китай використовує компоненти старих машин ASML і комплектуючі з інших постачальників, включно з японськими Nikon та Canon. Працівники Huawei працюють на об’єкті цілодобово, часто ночуючи на території лабораторії.

Завдяки цьому прототипу Китай може наблизитися до незалежності у виробництві новітніх чипів раніше, ніж очікували аналітики, хоча технічні виклики, зокрема точні оптичні системи, ще залишаються.

Нагадаємо, компанія Nvidia розмістила замовлення на 300 000 чіпів H20 у тайванської TSMC минулого тижня через сильний попит з Китаю, який змусив американську компанію змінити своє рішення і не покладатися лише на наявні запаси.
У Китаї створили чип пам’яті завтовшки в один атом

Залишити відповідь

Ваша e-mail адреса не оприлюднюватиметься. Обов’язкові поля позначені *